十、气相沉积成型

美国Connectict大学提出的一种基于活性气体分解沉淀的快速成型技术，是采用高能量激光的热能或光能，使成型材料分解出一种活性气体，在激光作用下，发生分解的活性气性沉积成一种材料薄层，然后再进行逐层沉积，制造出相应的产品。此项工艺是通过改变活性气体的成分以及温度、激光束的能量等，进而沉积出不同材料的产品零件，如陶瓷和金属零件。

气相沉积技术包括物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术和化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)技术。物理气相沉积技术是采用物理的方法，将成型材料表面汽化成气态原子、分子或电离成离子，并通过低压气体在基体表面沉积成一种材料薄层，然后再进行逐层沉积，制造出相应的产品。而化学气相沉积技术是将形成薄膜元素的气态或液态反应剂的蒸气引入反应室内，使得成型材料发生化学反应形成薄层，然后再进行逐层沉积，制造出相应的产品。目前，采用物理气相沉积技术的镀层成套设备正在向着全自动、大型化方向发展；化学气相沉积技术已成为无机合成化学的一个新领域，并开始应用于超大规模的集成电路中的薄膜加工制造。(https://www.daowen.com)