各类修复体的常用研磨方法
不同材料制作的修复体的研磨方法不同，同一种修复体的研磨方式也可能因人而异，因条件而异。各类修复体常用的研磨方法如下。
（一）金属修复体的研磨
临床常用的金属修复体主要分两大类：高熔合金和中熔合金。不同的金属修复体所用研磨材料和工具不同。
1.高熔合金 主要是钴-铬合金和镍-铬合金，先用金刚砂片或普通砂片切除铸道，表面进行喷砂处理，然后用金刚砂磨头进行粗打磨，修整出形状，去除多余部分，表面尽量平整，厚薄适中，调整好咬合与邻接关系；再用粒度较细的金刚砂磨头或碳化钨磨头进一步平整，特别是精细部位的修整，还可用粒度较细的砂布把表面研磨平滑；抛光先用橡皮轮抛光，然后用布轮或毛刷加抛光膏最后抛光，有时也可先用粒度较细的石英砂等进行粗抛光。对于有些复杂的支架可先进行电解抛光，然后常规抛光处理。在打磨过程中应防止过度发热，特别是用橡皮轮时需更加注意，防止金属表面出现研磨硬化现象。
2.中熔合金 中熔合金的硬度明显低于高熔合金，研磨抛光的步骤和要求基本一致，研磨工具可以用碳钢磨头或砂石磨头，抛光膏为氧化铁。
3.塑料 硬度较低，可以用金刚砂、碳化钨磨头打磨，也可用砂石、砂轮或碳钢磨头打磨，修去多余部分，修整出外形，厚薄适中，表面尽量平整，调整好咬合和邻接关系。细磨可用各种粒度较细的磨具修整细部位，进一步平整表面，再用砂布、砂纸研磨平滑。抛光可用布轮、毛刷加氧化锌糊剂或粒度较细的石英糊剂等。
4.陶瓷 陶瓷修复体表面的光泽是通过最后上釉而得到的，因此，陶瓷的研磨目的是使表面尽可能平整光滑，解剖形态清晰，
关系及邻接关系调整完备。先用氧化铝等砂石磨头或金刚砂磨头进行粗打磨，铸造陶瓷还应先用细粒度的氧化铝喷砂处理。粗磨应使陶瓷修复体外形合乎要求，调整好咬合和邻接关系，解剖形态准确清晰。细磨选用粒度较细的金刚砂磨头、钻针或砂石磨头，平整表面，进一步修整好解剖标志。抛光选用碳化硅橡皮轮，使表面初具光泽，超声清洗后上釉。陶瓷材料质脆易折，研磨时用力稍轻，磨具和机器质量要好，以减少震动。
（二）电解研磨
电解研磨又称电解抛光，也称电化学抛光，是指利用电化学的腐蚀作用，溶解金属表面的凸起粗糙部分，使其平滑，提高光洁度。电解抛光仅用于金属铸件的抛光。
1.电解抛光原理 电解抛光的工作原理是将金属铸件与电解槽的正极相连，并置于电解液中，通电后产生电解作用，被溶解的金属在铸件表面形成一层黏性薄膜，凸起部分覆盖较薄，因而电阻小，电流密度大，铸件表面溶解迅速；而凹陷部位覆盖薄膜较厚，电阻较大，电流密度小，铸件表面溶解较少。这样使铸件凹凸不平的表面逐渐变平整，形成光滑的表面。
2.电解液的组成 电解液有多种配方，对不同金属铸件配方不尽相同，使用要求也不相同。临床上常用的电解液有以下几类。
1）钴-铬合金电解液
配方：正磷酸 200 mL
硫酸 200 mL
无水铬酸 5 g
使用要求：液温40～50℃，电流密度100～250 A/dm2，电解时间为数分钟。
2）镍-铬合金电解液
配方：正磷酸 500 mL
琼脂 10 g
苛性钠 5 g
使用要求：液温100℃，电液密度250 A/dm2，电解时间2～10分钟。(https://www.daowen.com)
3）不锈钢电解液
配方：硫酸 200 mL
水 150 mL
甘油 200 mL
使用要求：液温40～50℃，电流密度50 A/dm2，电解时间2～10分钟。
4）金及金合金电解液
配方：硫酸 50 mL
酒石酸 0.5 g
使用要求：液温82℃，电流密度1.8～9.5 A/dm2，电解时间为数分钟。
（三）化学研磨
化学研磨与电解研磨相似，主要是指将金属置于强酸或强碱溶液中浸渍，通过氧化还原等化学反应，使金属表面变平整。化学研磨作为一种研磨方法很少单独使用。临床上常用的清除金属表面氧化物的方法，其实质也是一种化学研磨方法。不同金属的电解液有差异，需适当调整。
化学研磨18-8不锈钢电解液的参考配方如下：
硝酸 2％～8％
盐酸 4％～15％
硫酸 3％～18％
氢氟酸 2％～12％
水剩余量
使用要求：将金属置于电解液中，液温70～85℃，浸渍10～15分钟。
（郭建康）