数字化玉雕：研磨与抛光原理大揭秘！

第五节　研磨与抛光的原理

玉石的研磨与抛光以降低玉雕件表面粗糙度和增加表面光泽度等为主要目的，属光整加工，可归为磨削工艺大类。它们研磨与抛光在工作成形理论上很相似，一般用于玉石雕刻的最终加工工序。

现代玉石成形表面的精度和表面粗糙度要求越来越高，特别是高精度、高寿命的玉石要求到μm级的精度。一般的磨削表面不可避免要留下磨痕、微裂纹等缺陷，这些缺陷对一些玉石的精度影响很大，其成形表面一部分可采用超精密磨削加工达到设计要求，但大多数异型和高精度表面大都要进行研磨与抛光加工。

玉石经研磨与抛光后，改善了玉石的表面粗糙度，极大地提高了成形玉雕件的表面质量。经研磨和抛光工序后，可消除玉石刃口的磨削伤痕，使玉雕件毛刺高度减少。

一、玉石的研磨原理

（一）研磨的基本原理与分类

研磨是一种微量加工的工艺方法，研磨借助于研具与研磨剂（一种游离的磨料），使玉雕件的被加工表面和研具之间上产生相对运动，并施以一定的压力，从玉雕件上去除微小的表面凸起层，以获得很低的表面粗糙度和很高的尺寸精度、几何形状精度等，在玉石雕刻行业应用广泛。

1.研磨的基本原理

研磨时，研具的研磨面上均匀地涂有研磨剂，若研具材料的硬度低于玉雕件，当研具和玉雕件在压力作用下做相对运动时，研磨剂中具有尖锐棱角和高硬度的微粒，有些会被压嵌入研具表面上产生切削作用（塑性变形），有些则在研具和玉雕件表面间滚动或滑动产生滑擦（弹性变形）。这些微粒如同无数的切削刀刃，对玉雕件表面产生微量的切削作用，并均匀地从玉雕件表面切去一层极薄的玉石层，如图4-5-1所示为研磨加工玉雕件。同时，钝化了的磨粒在研磨压力的作用下，通过挤压被加工玉石表面的峰点，使被加工玉石表面产生微挤压塑性变形，从而使玉雕件逐渐得到高的尺寸精度和低的表面粗糙度。

2.研磨的应用特点

（1）降低表面粗糙度。研磨属于微量进给磨削，切削深度小，有利于降低玉雕件表面粗糙度。

（2）造型精度高。研磨采用极细的微粉磨料，研具和玉雕件处于弹性浮动工作状态，在低速、低压作用下，逐次磨去被加工玉石表面的凸峰点，加工精度高。研磨时，玉雕件基本处于自由状态，受力均匀，运动平稳。

图4-5-1　研磨加工玉雕件

（3）改善玉雕件表面力学性能。研磨的切削热量小，玉雕件变形小，变质层薄，表面不会出现微裂纹。同时能降低表面磨擦系数，提高耐磨和耐腐蚀性。研磨玉雕件表层存在残余压应力，这种应力有利于提高玉雕件表面的疲劳强度。

（4）研具的要求不高。研磨所用研具与设备一般比较简单，不要求具有极高的精度，但研具材料一般比玉雕件软，研磨中会受到磨损，应注意及时修整与更换。

3.研磨的基本分类

1）按研磨工艺的自动化程度

（1）手动研磨。玉雕件、研具的相对运动均用手动操作。加工质量依赖于操作者的技能水平，劳动强度大，工作效率低。适用于各类玉石件的各种表面。行业内玉石的精度抛光，仍以手工研磨为主。

（2）半机械研磨。玉雕件和研具采用简单的机械运动和手工操作，其加工质量仍与操作者技能有关，劳动强度降低。主要用于玉雕件平面及大曲面的研磨。

（3）机械研磨。玉雕件、研具的运动均采用机械运动。加工质量靠机械设备保证，工作效率比较高。但只能适用于表面形状不太复杂玉雕件的研磨。

2）按研磨剂的使用条件

（1）湿研磨。研磨过程中将研磨剂涂抹于研具表面，磨料在研具和玉雕件间滚动或滑动，形成对玉雕件表面的切削作用。加工效率较高，但加工表面的几何形状和尺寸精度及光泽度不如干研磨，多用于粗研和半精研磨。

（2）干研磨。在研磨之前，先将磨粒均匀地压嵌入研具工作表面一定深度，称为嵌砂。研磨过程中，研具与玉雕件保持一定的压力，并按一定的轨迹做相对运动，实现微切削作用，从而获得很高的尺寸精度和低的表面粗糙度。干研磨时，一般不加或仅涂微量的润滑研磨剂。一般用于精研磨，生产效率不高。

（3）半干研磨。采用糊状研磨膏，与湿研磨类似。研磨时，根据玉雕件加工精度和表面粗糙度的要求，适时地涂敷研磨膏。各类玉雕件的粗、精研磨均适用。

（二）研磨工艺

1.研磨的工艺参数

（1）研磨压力。研磨压力是研磨表面单位面积上所承受的压力。在研磨过程中，随着玉雕件表面粗糙度的不断降低，研具与玉雕件表面接触面积在不断增大，则研磨压力逐渐减小。研磨时，研具与玉雕件的接触压力应适当。若研磨压力过大，会加快研具的磨损，使研磨表面粗糙度增高，影响研磨质量；反之，若研磨压力过小，会使切削能力降低，影响研磨效率。

研磨压力一般为0.01～0.5MPa。手工研磨时的研磨压力为0.01～0.2MPa；精研磨时的研磨压力为0.01～0.05MPa；机械研磨时，压力一般为0.01～0.3MPa。当研磨压力为0.04～0.2MPa时，研磨对降低玉雕件表面粗糙度收效显著。

（2）研磨速度。研磨速度是影响研磨质量和效率的重要因素之一。在一定范围内，研磨速度与研磨效率成正比。但研磨速度过高时，会产生较高的热量，甚至会烧伤玉雕件表面，研具磨损加剧，从而影响加工精度。一般粗研磨时，宜用较高的压力和较低的速度；精研磨时则用较低的压力和较高的速度，这样可以提高生产效率和加工表面质量。

选择研磨速度时，应考虑加工精度、玉雕件材料、硬度、研磨面积和加工方式等多方面因素。一般研磨速度应在10～150m/min范围内选择，精研速度应在30m/min以下。

（3）研磨余量的确定。玉雕件在研磨前的预加工质量与余量，将直接影响到研磨加工时的精度与质量。由于研磨加工只能研磨掉很薄的表面层。因此，玉雕件在研磨前的预加工需要有足够的尺寸精度、几何形状精度和表面粗糙度。对表面积大或形状复杂且精度要求高的玉雕件，研磨余量应取较大值。预加工的质量高，研磨量取较小值。研磨余量的大小还应结合玉雕件的材质、尺寸精度、工艺条件及研磨效率等来确定。研磨余量尽量小，一般手工研磨不大于10μm，机械研磨也应小于15μm。

（4）研磨效率。研磨效率以每分钟研磨去除表面层的厚度来表示。玉雕件表面的硬度越高，研磨效率越低。通常在研磨的初期阶段，玉雕件几何形状误差的消除和表面粗糙度的改善较快，而后则逐渐减慢，效率下降。这与所用磨料的粒度有关，磨粒粗，切削能力强，研磨效率高，但所得研磨表面质量低；磨粒细，切削能力弱，研磨效率低，但所得研磨表面质量高。因此，为提高研磨效率，选用磨料粒度时，应从粗到细，分级研磨，循序渐进地达到所要求的表面粗糙度。

2.研磨器具的种类

研具既是研磨剂的载体，使游离的磨粒嵌入研具工作表面发挥切削作用。磨粒磨钝时，由于磨粒自身部分碎裂或结合剂断裂，磨粒从研具上局部或完全脱落，而研具工作面上的磨料不断出现新的切削刃口，或不断露出新的磨粒，使研具在一定时间内能保持切削性能要求。同时研具又是研磨成形的工具，自身具有较高的几何形状精度，并将其按一定的方式传递到玉雕件上。研磨器具可分为以下几种。

（1）研磨平板。用于研磨平面，有带槽和无槽两种类型。带槽的用于粗研磨，无槽的用于精研磨，玉雕件上的小平面常用自制的小平板进行研磨。

（2）研磨环。研磨环的内径比玉雕件的外径大。

（3）研磨棒。分固定式和可调式两种。固定式研磨棒制造容易，但磨损后无法补偿。分有槽的和无槽的两种结构，有槽的用于粗研磨，无槽的用于精研磨。

研具是磨具大类里的一类特殊工艺装备，它的硬度定义仍沿用磨具硬度的定义。磨具硬度是指磨粒在外力作用下从磨具表面脱落的难易程度。磨具硬度主要取决于结合剂加入量的多少和磨具的密度。磨粒容易脱落的表示磨具硬度低；反之表示硬度高。研具硬度的等级一般分为超软﹑软﹑中软﹑中﹑中硬﹑硬和超硬七大级。从这些等级中还可再细分出若干小级。在研磨切削加工中，若被研磨玉雕件的材质硬度高﹐一般选用硬度低的磨具；反之则选用硬度高的磨具。

3.常用的研磨剂

研磨剂是由磨料（图4-5-2）、研磨液及辅料按一定比例配制而成的混合物。常用的研磨剂有液体和固体两大类。液体研磨剂由研磨粉、液体配制而成；固体研磨剂是指研磨膏，由磨料和无腐蚀性载体构成。

图4-5-2　常用磨料

磨料一般要根据所要求的加工表面粗糙度来选择，从研磨加工的效率和质量来说，要求磨料的颗粒要均匀。粗研磨时，为了提高生产率，用较粗的磨料；精研磨时，用较细的磨料；精细研磨时，用更细的磨料。

此外研磨剂中还会用到一些在研磨时起到润滑、吸附等作用的混合脂辅助材料。

古人利用简单的工具配以解玉砂（磨料）就可以雕刻出非常精湛的玉器。解玉砂就是磨料，古人对解玉砂有研究，将常用的解玉砂分成四种:一是黄砂，由石英制成，削石取玉时用；二是红砂，由石榴石制成，用以剖玉成形；三是黑砂，为金刚砂，用于旋盘琢玉；四是珍珠砂，为云南红宝石制成，用油调配后对玉器抛光，使其光滑润泽。现在人们仍采用这样的天然磨料雕刻玉器。

不过天然磨料质量不能保证，分选加工较麻烦。现在主要采用人造磨料，如人造刚玉、碳化硅、碳化硼和人造金刚石等都成为重要的磨料。人造刚玉的成分和硬度与天然刚玉没有区别，甚至质量更好，目前应用比较广泛。

碳化硅是用二氧化硅与焦炭混合，加入少量木屑和氯化钠后加热到1 920～2 200℃，在高温还原条件下发生化学反应生成碳化硅。碳化硅生成的温度不同，其颜色也不一样，高温的多呈绿色，炉内边缘低温一些的碳化硅多为黑色，硬度达到摩氏9以上，次于金刚石，性质稳定，有导电性，且耐高温和酸。其实近年已研制出结晶颗粒大、无色透明的碳化硅晶体，良好的热导性，不易与钻石区分，现在已经开发出来作为钻石的替代品。

碳化硼是三氧化二硼和沥青焦混合后，在2 800℃高温和还原条件下生成的，多呈灰黑色，韧性度和硬度都超过碳化硅，仅次于金刚石。但价格比较高，故而较少采用。

立方氮化硼是优质的磨料，硬度接近金刚石，热稳定性优于金刚石，磨削效率高出金刚石五倍，比刚玉高出百倍。人造金刚石是优良的磨料，俗话说:“没有金刚钻，不揽瓷器活”，表明金刚石作为磨料的重要性。人造金刚石的研究始于很早年代，但实验成功并投入工业化生产仅仅是30几年前的事。合成人造金刚石就是将石墨放入一种特殊的压机中，加催化剂升温至1 500～2 000℃，升压至5 000MPa，石墨便转变成金刚石，合成金刚石颗粒较小，主要用来做磨料和抛光粉。近年合成金刚石颗粒可以达到一克拉以上，净度也不错，但成本太高，远没有达到商业要求。随着科技的进步，人造金刚石生产发展得非常快，使得人造金刚石成本大幅度地降低，玉雕行业采用人造金刚石工具也非常普遍了。

目前磨料应用已逐渐被人造金刚石切割和研磨工具所替代，人造金刚石大多直接镶在锯片和各种磨头或钻头上了，其加工效率已得到大大的提高。

4.研磨机

研磨机是使用涂上或嵌入磨料的研具对玉雕件表面进行研磨的设备。主要用于研磨玉雕件。研磨机的主要类型有圆盘式研磨机﹑转轴式研磨机和各种专用研磨机。

二、玉石的抛光原理

抛光是利用柔性拋光工具和微细磨料颗粒或其他拋光介质对玉雕件表面进行的修饰加工，去除之前工序中留下的加工痕迹（如刀痕、磨纹、麻点、毛刺）。拋光不能提高玉雕件的尺寸精度或几何形状精度，而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的。抛光把玉石表面磨细至镜面状态，使光照射在其表面时有尽可能多的规律性反射，达到光滑明亮的程度。玉器表面光亮润泽特别让人喜欢，形成这种润泽的主要原因有两点:一是玉石本身所具有的独特质地决定的；二是需要对玉石进行精细地琢、磨和抛光，玉器才能达到最佳的光泽。按照不同的抛光要求，抛光可分为普通抛光和精密抛光。

（一）抛光工具

抛光除可采用研磨工具外，还有适合快速降低表面粗糙度的专用抛光工具。抛光工具的基质分软质、中硬质和硬质。毡铊、皮铊等为软质；胶铊、木铊等为中硬质；锡盘、紫铜盘等为硬质。不同基质的抛光工具适应不同的玉器，但没有统一规定，完全凭经验和实践摸索，从中可以找出最佳方案。

1.油石

用磨料和结合剂等压制烧结而成的条状固结磨具。油石在使用时通常要加油润滑，因而得名。油石一般用于手工修磨玉雕件，油石有人造的和天然的两种，人造油石由于所用磨料不同，有两种结构类型。常见的有180＃、400＃、800＃、1 500＃、2 000＃等，先用180＃或240＃打磨一遍，接着用400＃或600＃打磨两遍，1 500＃打磨三遍，2 000＃打磨四遍。

（1）用刚玉或碳化硅磨料和结合剂制成的无基体的油石，按其横断面形状可分为正方形、长方形、三角形、楔形、圆形和半圆形等。

（2）用金刚石或立方氮化硼磨料和结合剂制成的有基体的油石，有长方形、三角形和弧形等。天然油石是选用质地细腻又具有研磨和拋光能力的天然石英岩加工成的，适用于手工精细修磨。

2.砂纸

砂纸是由氧化铝或碳化硅等磨料与纸黏结而成，主要用于粗抛光，按颗粒大小常用的有400＃、600＃、800＃、1 000＃等。(https://www.daowen.com)

3.抛光粉

抛光粉是玉器加工中非常重要的材料，其实就是极为精细的磨料；过去人们只有一两种抛光粉，例如云南红宝石粉作为抛光粉已记录在古书里。多年来人们不懈地探索，今天玉雕用的抛光粉品种已达到10余种，对不同硬度的玉器，采用的抛光粉也有所不同。

（1）金刚石抛光粉。多为低档的天然金刚石磨细加工而成，要求粒度非常小，网眼应在3 200～6 000目之间。这种抛光粉适合各种玉质的玉器抛光，尤其是硬度较高的玉器，特别像红、蓝宝石的雕刻品必须用金刚石抛光粉，因为其硬度高，采用其他抛光粉效果不佳。专门生产金刚石抛光粉的厂家出售的这类抛光粉都是用油脂调制好了的，买来就可以直接抛光。

（2）氧化铁抛光粉。俗称“红粉子”，为三氧化二铁。性质较稳定，不溶水。价格低廉，是常用的抛光粉。有时将其混在蜡中，制成抛光蜡块，抛光时将其涂抹在毛刷上，操作简单快捷。

（3）氧化铬抛光粉。俗称“绿粉子”，为三氧化二铬，是常用的抛光材料，多用于抛光翡翠等绿色玉器。

（4）氧化铝抛光粉。红、蓝宝石、白色刚玉等均为氧化铝抛光材料，磨细经严格筛分后用于抛光玉器效果都很好。多采用皮革和木制抛光工具与之配合，抛光效果最佳。

（5）二氧化铈抛光粉。呈粉红偏黄色，为稀土抛光材料，适宜水晶等脆性玉质制品的抛光。

（6）二氧化硅抛光粉。又称硅藻土，为白色或浅黄色，用于玛瑙等玉器抛光，效果不错。

其他还有碳化硅、碳化硼、二氧化锡、二氧化锆抛光粉等。抛光粉使用要注意几点:抛光粉不要混用；抛光初时应使用较粗的抛光粉，随后逐渐使用较细的抛光粉；抛光粉应粗细均匀，否则可能留下擦痕，影响抛光效果。

4.胶碾

胶碾，又叫胶铊，是一种使用广泛的抛光工具，是用特殊的抛光胶制成的形状各异的抛光用磨头。抛光胶的主要成分是虫胶和抛光粉。中国玉雕使用胶碾的历史非常久。在人造碳化硅粉问世之前，多采用天然产出的钢玉粉。现代则多使用280＃、400＃碳化硅或碳化硼。也可根据需要选用更细的抛光粉。

胶碾是抛光粉与工具的结合体，质地强韧而表面又够软，不仅有优良的抛光性能，而且制作方法简便，是一种实用方便、用途广泛的抛光工具。

制作抛光胶比较简单，先将碳化硼放在铁片上加热至足以融化虫胶粉为止，然后分数次加入虫胶粉并搅拌均匀；待其稍凉后可如揉面般的折叠数次，使碳化硼能均匀地混合；最后压制成砂轮状，中心孔可用热铁条贯穿而成。利用抛光胶遇热就软的特性，可以将其制作成圆盘、棒状、球状等工具，以适应各种玉器的抛光需要。抛光胶韧性强且表面柔软，抛光性能非常好，制作也简便，是重要的抛光工具。

5.木铊

木铊，用木材加工成圆棒、圆盘、圆鼓或凹轮等形状的抛光工具。木铊本身并无抛光作用，因有些抛光粉依附在木材的鬃眼里，随木铊转动时对玉雕产品产生抛光作用。为了使木铊能挂住抛光粉，最好选纤维较粗（鬃眼较大）的木材制作。

由于抛光工具是在潮湿条件下使用的，木铊会因潮湿而弯曲变形。为降低木铊的吸水性，通常要对木铊作浸蜡处理。

木铊价格低、易制作、抛光性好，可适应不同需要做成各种形状，抛光性能良好，是应用较为广泛的抛光工具。因此，木铊早就被国内外玉雕行业和宝石行业采用。

木铊抛光工作面的形状是多样的。抛平面时，抛光面是平整的；抛凸面形体时，抛光面是呈不同曲率的凹面。

不过木材的材质有硬、软之分，因此在使用上略有不同。

（1）硬质木铊。使用硬质木铊时，抛光粉应用油或润滑脂调制，最宜用来抛光硬度较高的玉石制品。

（2）软质木铊。因为软木较软，牢固性差，故将8～10mm的软木板粘贴在金属铁盘上，最宜用来抛光质地松软的玉制品。

6.皮铊

即将皮革蒙在特制的金属盘架或硬木盘架上，使之如同鼓的一侧。任何皮革均可使用。

皮铊多用红宝石或氧化铬抛光粉来抛光玉器，尤其适合凸面玉器的抛光，质地松软的玉器采用皮革抛光效果很佳。皮铊的抛光效果优于毡轮。

皮铊可用薄层皮革或3mm左右的厚皮革。蒙皮面时，一般将皮革光面作为抛光面。薄皮革的适形性好，适宜抛光凸面的玉制品，厚皮革的适形性差，抛大平面时较好。

7.毡铊

即用羊毛毡制作的抛光工具，毡铊分实心毡铊和蒙面毡铊，前者全部为羊毛毡制成，后者是在凸面木铊上蒙上一层羊毛毡。

（1）实心毡铊采用好羊毛压制而成。毡铊使用时，转速不宜快。因为转速较高时，抛光粉会因离心作用而散失，抛光效果反而不佳。

毡铊易吸尘土，尘土会影响抛光效果。保存时应保持清洁。此外一个毡铊也不宜改换所用抛光粉的种类。

（2）蒙面毡铊即将厚羊毛毡用热水浸泡10多分钟后，将其钉压在馒头形状的木轮上。

8.布铊

布铊为传统抛光工具，由棉布制成，较为柔软，主要抛光质地松软的玉器。因布较软，故在高速旋转中才能发挥抛光效果。但因转速较高时，抛光粉将会因离心力而散逸，而且玉制品也易被摔出，使用时需注意。

9.刷铊

由粗的鬃毛制成，用于去糙、刷亮，打磨玉器细微之处。

10.葫芦铊

它是比较古老的抛光工具。用老葫芦晒干后的硬壳制成，抛光效果不错。

11.皮条

由较厚的马皮条制成，蘸上抛光粉后可以打磨抛光不到的部位。把较厚的马皮条割取3～5mm见方，长度为30～40mm的一段，一头夹在机器上即可。机器转动时皮条亦会随之转动，利用这种转动来带动抛光粉进行抛光。

12.蜡抛光盘

蜡抛光盘是指用蜡覆盖的抛光盘，专门用于硬度极低的宝石或玉石制品的平面抛光。

蜡抛光盘的盘芯以8～10mm厚的铝板制作为宜。一般制成203.2～304.8mm大小，抛光时水平旋转。

将铝制盘芯微微加热至能熔化蜂蜡时，将蜂蜡涂上，待全部熔化时，将一块质地紧密的厚布，剪成圆形轻轻蒙上，用手抹平。然后再在布表面涂抹少许蜂蜡，使蜂蜡与布均匀地结合在一起。冷却后，将此蜡盘放在机器上，开机使其旋转，用极平坦的金属块压磨已涂好蜡的布表层，目的是使布与铝盘紧紧相贴。待表面完全平整后，可在蜡盘表面涂上抛光粉，便可用于抛光。

13.锡面抛光盘

即将纯锡熔化后，撇去表面浮渣，倒置在6～8mm厚的铝圆盘上。待其冷却后，用小刀沿半径方向切划出小道，用以存抛光粉。

（二）抛光工艺

1.工艺顺序

首先了解被抛光玉雕件的材料，以及前道工序的加工方法和表面粗糙度情况，检查被抛光表面有无划伤和压痕，明确玉雕件最终的粗糙度要求。并以此为依据，分析确定具体的抛光工序和准备抛光用具及抛光剂等。

（1）粗抛。经铣削、磨削等工艺后的表面清洗后，可以选择转速在35 000～40 000rpm的旋转表面抛光机或超声波研磨机进行抛光。常用的方法是先利用直径为φ3mm、WA400＃的轮子去除表面加工痕迹，然后用油石加油作为润滑剂或冷却剂手工研磨，再用由粗到细的砂纸逐级进行抛光。对于精磨削的表面，可直接用砂纸进行粗抛光，逐级提高砂纸的号数，直至达到玉石表面粗糙度的要求。一般的使用顺序为180＃→240＃→320＃→400＃→600＃→800＃→1 000＃。许多玉石抛光部门为了节约时间而选择从400＃开始。

（2）半精抛。半精抛主要使用砂纸和煤油。砂纸的号数依次为:400＃→600＃→800＃→1 000＃→1 200＃→1 500＃。

（3）精抛。精抛主要使用研磨膏。用抛光布轮混合研磨粉或研磨膏进行研磨时，通常的研磨顺序是1 800＃→3 000＃→8 000＃。1 800＃研磨膏和抛光布轮，可用来去除1 200＃和1 500＃砂纸留下的发状磨痕。接着用黏毡和钻石研磨膏进行抛光时，顺序为14 000＃→60 000＃→100 000＃。精度要求在1μm以上（包括1μm）的抛光工艺在玉石加工车间中的一个清洁的抛光室内即可进行。若进行更加精密的抛光则必须在一个绝对洁净的空间，灰尘、烟雾、头皮屑等都有可能报废数个小时的工作成果。

2.工艺措施

（1）工具材质的选择。用砂纸抛光需要选用软的木棒或竹棒。在抛光圆面或球面时，使用软木棒可更好地配合圆面和球面的弧度。而较硬的木条像樱桃木，则更适用于平整表面的抛光。修整木条的末端使其能与玉雕件表面形状保持吻合，这样可以避免木条（或竹条）的锐角接触玉雕件表面而造成较深的划痕。

（2）抛光方向选择和抛光面的清理。当换用不同型号的砂纸时，抛光方向应与上一次抛光方向变换30°～45°进行抛光，这样前一种型号砂纸抛光后留下的条纹阴影即可分辨出来。对于玉石，最终的抛光纹路应与玉雕件的加工方向一致。

在换不同型号砂纸之前，必须用脱脂棉蘸取酒精之类的清洁液对抛光表面进行仔细地擦拭，不允许有上一工序的抛光膏进入下一工序，尤其到了精抛阶段。将砂纸抛光换成钻石研磨膏抛光时，清洁更为重要。在抛光继续进行之前，所有颗粒和油都必须被完全清洁干净。

（3）抛光中可能产生的缺陷及解决办法。在研磨抛光过程中，不仅是工作表面要求洁净，工作者的双手也必须经过仔细清洁；每次抛光时间不应过长，时间越短，效果越好。如果抛光过程进行得过长将会造成“过抛光”，表面反而越粗糙。“过抛光”将产生“橘皮”和“点蚀”。为获得高质量的抛光效果，容易发热的抛光方法和工具都应避免，抛光中产生的热量和抛光用力过大都会造成“橘皮”，或材料中的杂质在抛光过程中从玉石组织中脱离出来，形成“点蚀”。

当抛光过程停止时，保证玉雕件表面洁净和仔细去除所有研磨剂、润滑剂非常重要。

3.影响玉石抛光质量的因素

由于一般抛光主要还是靠人工完成，所以抛光技术目前还是影响抛光质量的主要原因。除此之外，还与玉石材料、抛光前的表面状况等有关。

（1）不同硬度对抛光工艺的影响。硬度增高使研磨的困难增大，但抛光后的粗糙度减小。由于硬度的增高，要达到较低的粗糙度所需的抛光时间相应增长。同时硬度增高，抛光过度的可能性相应减少。

（2）玉雕件表面状况对抛光工艺的影响。玉石在机械切削加工的破碎过程中，表层会因热量、内应力或其他因素而使玉雕件表面状况不佳。因此，抛光前最好增加一道粗磨加工，彻底清除玉雕件表面状况不佳的表面层，为抛光加工提供一个良好的基础。