正电子发射断层显像及单光子发射计算机断层成像

正电子发射断层显像属于功能显像范畴，采用不同的正电子显像剂进行脑部正电子发射断层显像可反映脑功能方面的信息，包括血流、代谢以及受体等功能。由此，正电子发射断层显像又可分为脑血流灌注显像、脑代谢显像和脑受体显像。目前常用的方法有：①用15O-H2O 正确地测定局部脑血流灌注；②用18F-氟代脱氧葡萄糖测定局部脑葡萄糖代谢率；③用11C-氟马西尼测定苯二氮受体密度；④用11C-地利洛非测定颞叶癫痫中阿片受体的变化等。癫痫患者发作间期18F-氟代脱氧葡萄糖-正电子发射断层显像脑代谢研究最常见的异常是局部皮质下代谢减低而呈氟代脱氧葡萄糖摄取减少，通常低代谢区与发作源的部位一致。

单光子发射计算机断层成像是一种核医学检查，主要也是反映脑功能的变化。单光子发射计算机断层成像的基本原理是将能衰变释放出γ光子的放射性核素标记化合物经静脉注射，吸入或口服入体内，然后用探头从不同方向或角度接受被检查者部位释放出的γ光子，利用计算机特殊软件综合处理，重建核素立体分布的三维图像，测定单位体积的放射性活性，单光子发射计算机断层成像在癫痫中的应用主要包括电线的诊断、癫痫灶的手术定位、治疗后评估等。原发性局灶性癫痫在脑血流灌注单光子发射计算机断层成像中，大多表现为发作间期局部血流灌注减低，发作期相应部位血流灌注异常增加，特别是发作期单光子发射计算机断层成像能够给予较准确的定位。(https://www.daowen.com)

正电子发射断层显像或单光子发射计算机断层成像功能显像的最有效用途之一就是无创性帮助识别癫痫灶的定位。有一部分癫痫是难治性的，其局限性病灶需行外科手术治疗。手术成功的关键在于癫痫灶的准确定位，在手术前进行正电子发射断层显像或单光子发射计算机断层成像检查，就是为了确定手术的范围。