2.4 XPS数据处理（精细谱分峰拟合）通用原则
本节针对XPS数据处理中最受关心的分峰拟合进行重点分类讲解。首先总结了谱峰分峰拟合的一些通用原则；其次对荷电校正、背景扣除、谱峰平滑和拟合用到的数学函数模式进行讲解；再次，阐述了单峰拟合、双峰拟合、俄歇图谱、多重分裂峰及重合谱峰的拟合方法；最后列举了XPS数据分析常见的一些错误，并汇总了XPS数据分析的流程，以提醒大家避免一些错误，少走一些弯路。
谱峰分峰拟合的一些通用原则：
①分峰拟合前一般需要先进行谱峰校正、谱峰平滑（如有需要）、背底扣除等。(https://www.daowen.com)
②在谱峰拟合之前，根据材料信息比如导体、非导体或半导体，以及谱峰的峰型特点来选择是使用Asymmetric（不对称性峰型拟合）还是高斯-洛伦兹（Gaussian-Lorentzian）峰型（对称峰型拟合）函数模式。多数情况下，合金、金属，以及sp2石墨碳、金属碳化物等材料图谱呈不对称峰型；而半导体、多数氧化物以及高分子聚合材料的图谱呈对称峰型。
③确定背底扣除方式（Linear，Shirley，Tougaard，Smart），通常选择Shirley或Smart方式比较多。同时，在同一组元素分析时，所有元素尽可能选择同一背底扣除方式。
④XPS图谱中对称峰型为高斯-洛伦兹曲线（Gaussian-Lorentzian），常规对称谱峰单峰拟合时，谱峰的高斯比“%Gauss”应该超过70%（视情况而定）。
⑤在分析同种元素的自旋-轨道分裂峰时，要充分利用已知的面积比和峰位能量差（XPS数据手册或软件集成相关数值）锁定相关参数后再进行拟合。如谱峰常用面积比：p1／2∶p3／2＝1∶2，d3／2∶d5／2＝2∶3，f5／2∶f7／2＝3∶4。
⑥可利用峰位判断已知的化学态，但不要忽略峰型所提供的重要化学态信息，比如之前介绍过的震激卫星峰、能量损失峰、多重分裂峰等，一定要多查相关资料了解所关注元素对应的各种化学态的标准图谱。
⑦利用俄歇峰和俄歇参数去分析不同的化学态，特别是某些元素的不同化学态的特征光电子谱峰结合能相近时。
⑧谱峰的半峰宽与元素本身化学态以及采集的测试条件有关，比如通能大小、材料荷电效应影响等。合理的单峰半峰宽一般为0.8～2.2 eV，当然，也要视情况而定。通常荷电中和不良时，谱峰展宽比较严重（单峰半峰宽超过2.5 eV），且结合能比常规数值偏高，此时建议重新安排测试。
⑨通常来讲，对称单峰拟合时，比如常规对有机材料中的C1s、O1s、N1s进行拟合时，同一个元素不同化学态的半峰宽可设置相等或相近，但如果有无机组分存在，比如碳材料里的无机碳（比如sp2石墨碳）、碳化物，其半峰宽相对有机谱峰就比较小；同样，金属氧化物中的O1s谱峰半峰宽通常小于有机碳氧化学键；某些金属氮化物中的N1s谱峰半峰宽也小于有机氮的半峰宽；可以利用半峰宽锁定功能（Fix）协助曲线拟合。双峰拟合也要注意。当然，拟合时，一定要先参考标准图谱，大多数金属谱峰的半峰宽明显小于金属氧化物的半峰宽，某些自旋轨道分裂峰的两个谱峰半峰宽也有差别，如金属钼的Mo3d谱峰。
⑩对于非对称拟合，有两个以上更多的参数可以来控制曲线拟合：MultiPak中有Tail Length和Tail Scale两个参数可控制谱峰的不对称拖尾，而Avantage软件中有Tail Mix、Tail Height、Tail Exponent这几个设置拖尾参数。如果谱峰有不对称性，拟合时必须合理设置这些参数。通常用标准样品的图谱来确定这些拖尾参数，但经验同样非常重要。