6.5　本章小结

相较于传统的薄膜制备技术，原子层沉积薄膜具有极佳的共形性、面积大、均匀性好、膜厚单原子层级精确可控、生长温度低及结合力强等特点，在空间大功率微波部件微放电阈值提升及二次电子发射抑制等领域具有重要的研究和应用价值。

基于原子层沉积的独特优势，本书介绍了一种简单的基于超薄氮化钛涂层的二次电子发射抑制技术，涂层与基片之间具有较强的结合力。研究中采用等离子体增强原子层沉积技术制备致密的高质量氮化钛薄膜。通过调节原子层沉积循环周期数，可以精确控制薄膜厚度。氮化钛具有耐磨、耐腐蚀和较高电导率的特性，可以采用原子层沉积氮化钛作为低二次电子镀膜的基底。碳材料具有极低的SEY和极高的环境稳定性，碳镀层适宜作为低二次电子发射处理技术的最表层镀膜。基于原子层沉积与石墨烯的复合薄膜能实现强结合力镀膜，有助于实现基于石墨烯的大功率微波技术的工程化。