光刻和蚀刻在MEMS制造中是两种最常见的处理过程[2]。许多应用于微纳加工的技术已经被开发出来了，并且在本书中与传感器[3]、光电和电子相关的章节中都进行讨论。然而，此类技术几乎没有成为应用于MEMS制造的主流，貌似是因为传统成像分辨率仅有几十微米[4，5]。虽然分辨率可以被提升，但是它要求最佳的墨水质量、打印基板、液滴体积、打印速度和液滴间距[6]。
