9.5.1  物理气相沉积（PVD）

物理气相沉积是利用热蒸发、溅射或辉光放电、弧光放电的物理过程，在基材表面沉积所需涂层的技术。蒸镀、溅射是物理气相沉积的两类基本镀膜技术。以此为基础，衍生出反应镀和离子镀。镀料原子在沉积时，可与其他活性气体分子发生化学反应而形成化合物膜，称为反应镀；在镀料原子凝聚成膜的过程中，还可以同时用具有一定能量的离子轰击膜层，目的是改变膜层的结构与性能，称为离子镀。其中，反应镀在工艺和设备上变化不大，可以认为是蒸镀和溅射的一种应用；而离子镀在技术上变化较大，所以通常将其与蒸镀、溅射并列为另一类镀膜技术。目前，在模具的强化方面，阴极溅射法和离子镀法应用较多。(https://www.daowen.com)