9.5.3  等离子化学气相沉积(PCVD)

9.5.3 等离子化学气相沉积(PCVD)

等离子化学气相沉积是介于化学气相沉积和物理气相沉积之间的一种处理方法,借助气体辉光放电产生的低温等离子体来增强反应物质的化学活性,促进气体间的化学反应,从而能在较低的温度下沉积出所需的镀层。(https://www.daowen.com)